具有石材支架的光刻设备
授权
摘要
一种具有石材支架的光刻设备，包括：传输机构、投影机构和机箱，传输机构和投影机构都位于机箱的内部，传输机构从机箱的前端延伸至后端，投影机构位于机箱的后端；投影机构包括：多个投射光源和支架，投射光源固定在支架的上端，多个投射光源呈矩阵式排列，支架由石材形成。由于采用了石材的支架，因此可以避免支架变形或者断裂的情况，防止投影方向偏转，使线路图案有效地投影在电路板上。
基本信息
专利标题 ：
具有石材支架的光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921505267.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-11
授权号 ：
CN210466010U
授权日 ：
2020-05-05
发明人 ：
温伟华
申请人 ：
广东台名智能设备有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇汴康西路2号3号楼101室
代理机构 ：
深圳科湾知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
钟斌
优先权 ：
CN201921505267.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-05-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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