一种具有断电保护装置的光刻设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有断电保护装置的光刻设备，包括基座、设置在所述基座上的平台、设置在所述平台上方的光刻机构、用于实现所述光刻机构相对于所述平台运动的驱动机构，以及用于在所述光刻机构超出预设运动行程时实现所述驱动机构断电的断电保护装置。通过上述结构，能够在运动失控时及时实现运动停止，防止光刻机构因脱离而飞出造成的损坏。
基本信息
专利标题 ：
一种具有断电保护装置的光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020803584.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-14
授权号 ：
CN212160348U
授权日 ：
2020-12-15
发明人 ：
吕帅徐顺达王冠楠朱鹏飞
申请人 ：
苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区新昌路68号
代理机构 ：
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
周志中
优先权 ：
CN202020803584.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H02H5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-12-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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