吸附装置和具有其的光刻设备
公开
摘要
本发明公开了一种吸附装置和具有其的光刻设备，包括：吸盘，吸盘设有相互连通的吸附腔、抽气孔和多个吸附孔，吸盘具有用于放置电路板的放置面，多个吸附孔贯通放置面，吸附腔通过至少一个吸附孔与外界空气连通，抽气孔贯通吸附腔的腔壁；至少一个分隔片，至少一个分隔片可转动地安装于吸盘且至少部分位于吸附腔内，分隔片在连通位置和分隔位置之间可转动，分隔片处于分隔位置时将吸附腔分隔为不连通的两个腔体，每个腔体与多个吸附孔中的部分连通，分隔片处于连通位置时允许两个腔体连通。根据本发明实施例的吸附装置能够根据电路板的尺寸来调节吸附区域的尺寸，具有吸附稳定性高、噪音小且能耗低等优点。
基本信息
专利标题 ：
吸附装置和具有其的光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114594663A
申请号 ：
CN202210317502.1
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-03-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金伟龙
申请人 ：
合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市高新区长宁大道789号1号楼
代理机构 ：
北京景闻知识产权代理有限公司
代理人 ：
张强
优先权 ：
CN202210317502.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
