光刻设备与装置制造方法
专利权的终止
摘要
浸入光刻设备的投射系统的末级元件构制用于折射率高于末级元件的折射率的液体。在一个实施例中，末级元件包括弯月形凸透镜。此类末级元件使得能够增大光刻设备的有效数值孔径并且减小投射光束在其经过末级元件到达液体时的总体内部反射。
基本信息
专利标题 ：
光刻设备与装置制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1758143A
申请号 ：
CN200510108404.3
公开（公告）日 ：
2006-04-12
申请日 ：
2005-10-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
C·瓦格纳
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
原绍辉
优先权 ：
CN200510108404.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/207
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2018-09-25 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20051008
授权公告日 : 20090624
终止日期 : 20171008
申请日 : 20051008
授权公告日 : 20090624
终止日期 : 20171008
2009-06-24 ：
授权
2007-12-05 ：
实质审查的生效
2006-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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