柔性吸附装置及光刻设备
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摘要

本发明提供了一种柔性吸附装置及光刻设备,包括移动模块及设置于移动模块相对的两端的两个柔性支撑件,所述柔性支撑件内设置有一真空吸附腔,以实现对被吸附件的真空吸附,所述柔性支撑件的刚度小于所述被吸附件的刚度,以使吸附所述被吸附件时,形变发生在所述柔性支撑件上,使得所述被吸附件的形变量和扭曲度更小,并且,所述柔性支撑件与所述移动模块之间具有一阻尼气膜,能够抑制所述被吸附件的垂向高频振动,且振动越强,抑制效果越好。

基本信息
专利标题 :
柔性吸附装置及光刻设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112415856A
申请号 :
CN201910785428.4
公开(公告)日 :
2021-02-26
申请日 :
2019-08-23
授权号 :
CN112415856B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
钱林峰郑清泉刘屈武丛国栋
申请人 :
上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区张东路1525号
代理机构 :
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 :
王宏婧
优先权 :
CN201910785428.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-22 :
授权
2021-03-16 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190823
2021-02-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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