光刻机大翘曲度硅片吸附盘
授权
摘要
本实用新型公开了光刻机大翘曲度硅片吸附盘，包括用于支撑的碳化硅盛平台，位于所述碳化硅盛平台的顶部两侧对称设置有周缘气密环，位于所述周缘气密环的外侧均设置有柔性真空气密环，位于所述碳化硅盛平台的内部设置有真空槽，所述真空槽的底端连接有真空管，所述碳化硅盛平台内侧设置有若干个凸块，两个相邻的凸块之间均设置有间隙。本实用增加的柔性气密环使得晶圆片的两端不易翘起，保持晶圆片的平整，结构简单，实用性强。
基本信息
专利标题 ：
光刻机大翘曲度硅片吸附盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021945933.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-08
授权号 ：
CN212781668U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
姚庆利
申请人 ：
上海赛瑾精密科技有限公司
申请人地址 ：
上海市嘉定区澄浏公路52号39幢2楼J2583室
代理机构 ：
上海领洋专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
俞晨波
优先权 ：
CN202021945933.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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