光刻机硅片台移动装置
授权
摘要

本实用新型公开了光刻机硅片台移动装置,包括支撑平台,所述支撑平台的下表面固定安装有辅助支撑腿,所述支撑平台的上表面固定安装有第一支撑板,所述第一支撑板的上表面开设有第一条形槽,所述第一条形槽的内壁转动连接有第一滚轴,所述第一滚轴的表面搭接有硅片台,所述硅片台的上表面开设有放置槽。该光刻机硅片台移动装置,通过设置第一支撑板、压板、第一滚轴和第二滚轴,利用第一支撑板上的第一滚轴和压板上的第二滚轴夹紧硅片台,当硅片台在丝杠的带动下移动时,由于硅片台的上下两表面分别与第一滚轴和第二滚轴滚动连接,与滑动连接相比较,减少了第一滚轴、第二滚轴和硅片台之间的磨损,提高了硅片的加工精度。

基本信息
专利标题 :
光刻机硅片台移动装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022433437.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-28
授权号 :
CN213780634U
授权日 :
2021-07-23
发明人 :
张俊杰
申请人 :
上海图双精密装备有限公司
申请人地址 :
上海市青浦区久远路157号1幢1层东侧
代理机构 :
上海汇齐专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
朱明福
优先权 :
CN202022433437.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-07-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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