一种光刻机的硅片直线预矫正装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种光刻机的硅片直线预矫正装置，包括机架，所述机架上设置有由第一升降动力装置驱动的升降平台，所述直线预矫正装置安装于机架上，该直线预矫正装置包括水平滑座，所述水平滑座滑动安装于机架上且由水平动力装置驱动；所述水平滑座上设置有竖直支座，所述竖直支座上竖直滑动安装有一次升降座，所述一次升降座由第二升降动力装置驱动，所述一次升降座上还安装有顶推硅片盛放盒内硅片的矫正杆，所述矫正杆上设置有与硅片端部接触的柔性材料。该直线预矫正装置能够在硅片转移之前对硅片盛放盒内的硅片进行位置矫正，从而方便后续的寻边操作。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻机的硅片直线预矫正装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021705397.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-14
授权号 ：
CN212694245U
授权日 ：
2021-03-12
发明人 ：
张雪奎
申请人 ：
山东华楷微电子装备有限公司
申请人地址 ：
山东省日照市日照高新区高新六路17号日照智慧微电产业园（高新六路与艳阳路交汇处）
代理机构 ：
苏州金项专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
金星
优先权 ：
CN202021705397.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/68
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-03-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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