一种硅片的旋转预矫正装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种硅片的旋转预矫正装置,包括机架,所述机架上设有升降驱动装置驱动的放置平台,所述放置平台上定位有硅片盛放盒,所述机架上设有水平支架,所述水平支架上设有竖向驱动机构,所述竖向驱动机构上驱动有支撑座,所述支撑座上转动安装有矫正机构,所述矫正机构与所述硅片盛放盒的开口端同侧设置。通过竖向驱动机构带动支撑座上升、并靠近硅片盛放盒内的硅片,之后通过转动的矫正机构对硅片施力、并使硅片与硅片盛放盒上的端臂相抵,进而在往光刻机移送硅片前,完成了(位置发生变化的)硅片的复位矫正工作,提高了硅片移送至光刻区域的精确度,有效保障了光刻机正常工作的连续性和工作效率。

基本信息
专利标题 :
一种硅片的旋转预矫正装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021708120.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-14
授权号 :
CN212433582U
授权日 :
2021-01-29
发明人 :
黄佳
申请人 :
江苏晋誉达半导体股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市张家港经济技术开发区福新路2号
代理机构 :
苏州金项专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
金星
优先权 :
CN202021708120.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  B65G47/22  B65G47/82  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-01-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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