采用十字导轨的光刻机硅片台双台交换装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要
采用十字导轨的光刻机硅片台双台交换装置，该装置主要应用于半导体光刻机中。本实用新型含有运行于预处理工位的硅片台、运行于曝光工位的硅片台和两个十字导轨驱动单元，每个十字导轨驱动单元包含X向直线电机、Y向直线电机和用以推动硅片台运动的推杆；十字导轨驱动单元与硅片台之间通过真空轴承吸住，带动硅片台作大范围X、Y方向运动。本实用新型采用两个双自由度驱动单元，使装置结构大大得以简化，有效降低了同步控制的要求。
基本信息
专利标题 ：
采用十字导轨的光刻机硅片台双台交换装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200720187345.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2007-12-21
授权号 ：
CN201181387Y
授权日 ：
2009-01-14
发明人 ：
朱煜张鸣汪劲松徐登峰尹文生胡金春杨开明李广闵伟段广洪
申请人 ：
清华大学
申请人地址 ：
100084北京市100084信箱82分箱清华大学专利办公室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200720187345.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/68
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-01-06 ：
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 20071221
2009-01-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
