采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统
专利权的终止
摘要
采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统,属于半导体制造装备技术领域。本实用新型含有运行于预处理工位的硅片台和运行于曝光工位的硅片台;在预处理工位和曝光工位上分别设有一个H型驱动单元,所述的H型驱动单元由双侧X向直线电机以及Y向直线电机组成,用于驱动硅片台在预处理工位和曝光工位上作X方向和Y方向运动。本实用新型的技术要点是在基台中间设置有两个过渡承接装置,过渡承接装置上安装有摩擦轮,当H型驱动单元与其精确对准时,靠摩擦轮的摩擦力,实现硅片台从预处理工位过渡到曝光工位。有效避免了导轨精密对接的问题,降低了系统结构的复杂性。
基本信息
专利标题 :
采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720187347.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-12-21
授权号 :
CN201181389Y
授权日 :
2009-01-14
发明人 :
朱煜张鸣汪劲松徐登峰尹文生胡金春杨开明李广闵伟段广洪
申请人 :
清华大学
申请人地址 :
100084北京市100084信箱82分箱清华大学专利办公室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200720187347.7
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20 H01L21/68
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2016-02-10 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101645504647
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2007201873477
申请日 : 20071221
授权公告日 : 20090114
终止日期 : 20141221
号牌文件序号 : 101645504647
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2007201873477
申请日 : 20071221
授权公告日 : 20090114
终止日期 : 20141221
2009-01-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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