光刻机运动台反力抵消装置
授权
摘要
本实用新型公开了光刻机运动台反力抵消装置,包括底座,所述底座的上表面固定连接有光刻机主体,所述光刻机主体的正面设置有控制主机,所述光刻机主体的正面通过合页活动连接有开合门,所述开合门的正面设置有观察窗,所述光刻机主体的内底壁固定连接有减震器,所述减震器的表面设置有运行平台,所述运行平台的上表面设置有硅片台,所述硅片台的上表面设置有硅片。该光刻机运动台反力抵消装置,通过设置减震器,便于硅片台在运行平台上运行时产生的作用力能够通过减震器进行减震,通过设置压力弹簧和减力凸起,便于运行平台在运作时产生的作用力能够通过减力凸起和压力弹簧进行抵消,从而达到有效抵消运动台运作时产生反力的效果。
基本信息
专利标题 :
光刻机运动台反力抵消装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022433423.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-28
授权号 :
CN213780633U
授权日 :
2021-07-23
发明人 :
张俊杰
申请人 :
上海图双精密装备有限公司
申请人地址 :
上海市青浦区久远路157号1幢1层东侧
代理机构 :
上海汇齐专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
朱明福
优先权 :
CN202022433423.6
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-07-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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