采用传送带结构的光刻机硅片台双台交换装置

专利权的终止

摘要

采用传送带结构的光刻机硅片台双台交换装置，属于半导体制造装备技术领域。本实用新型含有运行于预处理工位的硅片台和运行于曝光工位的硅片台；在预处理工位和曝光工位上分别设有一个H型驱动单元，所述的H型驱动单元由双侧X向直线电机以及Y向直线电机组成，用于驱动硅片台在预处理工位和曝光工位上作X方向和Y方向运动；该装置在基台两侧分别安装有传送带，在传送带的侧面固定联结有对接滑块，通过传送带和对接滑块，将硅片台1由预处理工位过渡到曝光工位。本实用新型由于采用传送带结构，有效避免了专利ZL03156436.4双台交换装置导轨精密对接的问题，具有操作维护简单，外形尺寸较小等特点。

基本信息

专利标题：

采用传送带结构的光刻机硅片台双台交换装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720187346.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-12-21

授权号：

CN201181388Y

授权日：

2009-01-14

发明人：

朱煜张鸣汪劲松徐登峰尹文生胡金春杨开明李广闵伟段广洪

申请人：

清华大学

申请人地址：

100084北京市100084信箱82分箱清华大学专利办公室

代理机构：

代理人：

优先权：

CN200720187346.2

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/68

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2018-01-23 ：

专利权的终止

专利权有效期届满IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20071221
授权公告日 : 20090114

2009-01-14 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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