一种多工位硅片光刻机
授权
摘要
本实用新型公开了一种多工位硅片光刻机,涉及硅片加工技术领域,具体为一种多工位硅片光刻机,包括硅片光刻机本体,所述硅片光刻机本体的底部固定安装有底座,所述底座的上表面固定安装有保护罩,所述保护罩位于硅片光刻机本体的外部,所述保护罩的两侧均铰接有罩门,所述罩门的中部固定连接有透明观察板。该多工位硅片光刻机,通过保护罩、罩门以及电动伸缩杆的配合使用,利用保护罩对硅片光刻机本体进行保护,可以避免在机器未使用时受到外界碰撞、灰尘的损坏,同时利用罩门可以将保护罩打开,进而便于硅片光刻机本体进行正常工作,配合电动伸缩杆使罩门自动升降,提高了该多工位硅片光刻机的使用便捷性。
基本信息
专利标题 :
一种多工位硅片光刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021438844.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-20
授权号 :
CN212302210U
授权日 :
2021-01-05
发明人 :
高培成
申请人 :
山东民峰智能科技有限公司
申请人地址 :
山东省济南市明水经济开发区轻骑路东侧(济南民峰塑料公司)3#车间
代理机构 :
济南鼎信专利商标代理事务所(普通合伙)
代理人 :
曹玉琳
优先权 :
CN202021438844.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-01-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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