双工位超声硅片清洗设备
授权
摘要
本实用新型公开了双工位超声硅片清洗设备，包括工作台，所述工作台顶部两边均焊接有立柱，且两根立柱的顶部通过螺栓固定有同一个电动滑台，所述电动滑台滑动端的底部通过螺栓固定有推杆电机，且推杆电机的输出轴连接有顶部开口的网箱，所述工作台顶部依次开设有两个工位槽，且两个工位槽内均安装有清洗机构，两个所述清洗机构均包括水槽、与水槽底部连接的下水管、与下水管连接的过滤盒、与过滤盒连接的水泵、通过导管与水泵、存储筒和水龙头。本实用新型能够在清洗液水槽清洗完硅片后通过电动滑台和推杆电机将硅片转运至纯水水槽内，能够清洗硅片表面残留的清洗液，能够对清洗液和纯水进行重复利用。
基本信息
专利标题 ：
双工位超声硅片清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921184916.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-26
授权号 ：
CN210207904U
授权日 ：
2020-03-31
发明人 ：
孙伟
申请人 ：
天津创昱达光伏科技有限公司
申请人地址 ：
天津市宝坻区黄庄镇产业功能区一号路东4号
代理机构 ：
北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
宋平
优先权 ：
CN201921184916.1
主分类号 ：
B08B3/12
IPC分类号 ：
B08B3/12 B08B3/14 B08B3/08
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
B08B3/12
用声波或超声波振动的（声波或超声波陶器或餐具清洗或冲洗机入A47L15/13；使用超声波技术清洗或冲洗天然牙、假牙或类似于天然牙的入A61C17/20；超声波振动用于一般化学、物理，或物理化学过程中的入B01J19/10
法律状态
2020-03-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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