电池硅片清洗设备
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型提供了一种电池硅片清洗设备,其包括用以实现电池硅片表面制绒的制绒碱洗槽以及与制绒碱洗槽并联设置第一转换槽,第一转换槽具有对电池硅片表面进行制绒的制绒状态以及对在电池硅片背面沉积多晶硅薄层时绕镀至其正面的多晶硅进行去除的第一去绕镀状态;电池硅片清洗设备还具有第二转换槽,第二转换槽具有串接于第一转换槽后侧以与第一转换槽配合去除绕镀至电池硅片正面多晶硅的辅助去绕镀状态以及在第一转换槽未对绕镀至电池硅片正面的多晶硅进行去除时首次实现多晶硅去除的第二去绕镀状态;本实用新型电池硅片清洗设备能同时满足电池硅片的制绒工艺及去绕镀工艺,相对传统设备具有更高的集成度,能够降低设备制作成本。

基本信息
专利标题 :
电池硅片清洗设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921526565.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-12
授权号 :
CN210443532U
授权日 :
2020-05-01
发明人 :
陈海燕
申请人 :
苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市高新区鹿山路199号
代理机构 :
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张炜平
优先权 :
CN201921526565.8
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  H01L21/02  H01L31/18  C30B33/10  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-02-26 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H01L 21/67
变更事项 : 专利权人
变更前 : 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
变更后 : 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 215000 江苏省苏州市高新区鹿山路199号
变更后 : 215000 江苏省苏州市高新区鹿山路199号
变更事项 : 专利权人
变更前 : 阿特斯阳光电力集团有限公司
变更后 : 阿特斯阳光电力集团股份有限公司
2020-05-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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