硅片清洗设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种硅片清洗设备，包括：框架组件；工艺机构，设于框架组件中，数量为至少两个，适于对硅片进行工艺处理；传输组件，与框架组件连接，并适于沿框架组件移动并传输硅片，以使得硅片由任一工艺机构移动至任另一工艺机构；隔离组件，设于框架组件中，通过在开启状态和关闭状态之间切换，以使得任一工艺机构的内部空间与外部空间相互连通或相互分隔；其中，工艺机构包括至少一个的清洗组件和至少一个的烘干组件，清洗组件适于对硅片进行清洗，烘干组件适于对硅片进行烘干，清洗组件中设有鼓泡装置。本实用新型能够提高硅片的清洗效率和清洗质量。
基本信息
专利标题 ：
硅片清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922014310.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-20
授权号 ：
CN210628335U
授权日 ：
2020-05-26
发明人 ：
左国军成旭李雄朋任金枝
申请人 ：
常州捷佳创精密机械有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市新北区机电工业园宝塔山路9号
代理机构 ：
北京友联知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪海屏
优先权 ：
CN201922014310.X
主分类号 ：
H01L31/18
IPC分类号 ：
H01L31/18 H01L21/67 F26B9/06 F26B21/00 F26B21/12 F26B25/06
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法律状态
2020-05-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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