硅片清洗设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种硅片清洗设备，包括工艺机构，数量为至少两个，适于对硅片进行工艺处理；传输组件，传输所述硅片，以使得所述硅片由任一所述工艺机构移动至任另一所述工艺机构；其中，所述工艺机构包括至少一个的清洗组件和至少一个的烘干组件，所述清洗组件适于对所述硅片进行清洗，所述烘干组件适于对所述硅片进行烘干。本实用新型能够在太阳能电池制备过程中对硅片进行连续而高效地制绒清洗，由此提高太阳能电池的生产效率。
基本信息
专利标题 ：
硅片清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922014275.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-20
授权号 ：
CN210628258U
授权日 ：
2020-05-26
发明人 ：
左国军成旭李雄朋任金枝
申请人 ：
常州捷佳创精密机械有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市新北区机电工业园宝塔山路9号
代理机构 ：
北京友联知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪海屏
优先权 ：
CN201922014275.1
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-05-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN210628258U.PDF
PDF下载
