硅片清洗装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种硅片清洗装置,包括清洗槽,其中设置清洗液,清洗槽上方设置有花篮固定装置,花篮固定装置可带动位于其中的花篮上下移动,所述花篮固定装置下方设置有罩板,所述花篮固定装置在竖直方向的投影落在罩板在竖直方向的投影范围内;所述罩板包括左半部分和右半部分,两部分均倾斜设置,且两者之间关于竖直平面对称设置。进一步的,所述清洗槽顶部两侧设置有风幕机,风幕机形成水平的帘门将清洗槽和其外部隔开。此处设置罩板第一可以防止清洗液蒸汽上浮后二次污染硅片,减少水纹产生,且水沿斜板运动减少慢慢提拉运动过程中运动阻力的问题,使液体在慢慢提拉过程中保持相对静止。

基本信息
专利标题 :
硅片清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020392477.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-24
授权号 :
CN212093489U
授权日 :
2020-12-08
发明人 :
姜涛李世磊
申请人 :
无锡市正罡自动化设备有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市锡山经济开发区厚桥街道安泰二路2882号
代理机构 :
北京挺立专利事务所(普通合伙)
代理人 :
沃赵新
优先权 :
CN202020392477.X
主分类号 :
B08B3/10
IPC分类号 :
B08B3/10  B08B11/02  B08B13/00  B08B15/00  H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的,如用加热,电力,振动
法律状态
2020-12-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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