用于硅片批量清洗的清洗装置
授权
摘要

本实用新型提出一种用于硅片批量清洗的清洗装置,包括:浸泡池,与浸泡池连通有进液管及排液管,进液管及排液管上分别连接有感应开关,浸泡池上方设置有输送口,输送口上连接有用于打开或关闭输送口的感应门A;升降机构,位于浸泡池内、输送口的下方,升降机构顶部连接有托板;清洗框,放置在托板上用于盛放硅片;干燥池,位于浸泡池上方与输送口连通,与干燥池连通有可向干燥池内通入干燥气体的气管,气管上连接有控制开关,干燥池的顶部与输送口相对应的位置设置有输出口,输出口上连接有用于打开或关闭输出口的感应门B。本实用新型可一次清洗多片硅片,能够节约成本、提高清洗效率,且能够提高硅片洁净度,缩短干燥时间。

基本信息
专利标题 :
用于硅片批量清洗的清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922287098.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-19
授权号 :
CN211160969U
授权日 :
2020-08-04
发明人 :
冀然
申请人 :
苏州天仁微纳智能科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市常熟经济技术开发区四海路11号科创园1号楼311室
代理机构 :
北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈娟
优先权 :
CN201922287098.4
主分类号 :
B08B3/08
IPC分类号 :
B08B3/08  B08B13/00  F26B21/00  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/08
具有化学作用或溶解作用的液体
法律状态
2020-08-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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