硅片清洗系统

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摘要

本实用新型提供了一种硅片清洗系统，包括集成清洗槽、储液装置、废液回收装置以及控制装置，所述集成清洗槽具有与储液装置管路连接的喷淋机构以及用于进行超声清洗的超声振动机构，所述喷淋机构与所述控制装置控制连接，以使得所述喷淋机构的喷淋水压可调；硅片经喷淋机构进行首次喷淋清洗后在超声振动机构的超声作用下进一步分离硅片表面的污物，硅片清洗后的废液经管路排放至废液回收装置中进行处理及再次利用。本实用新型的硅片清洗系统的喷淋压力可调且可对硅片清洗过程中产生的废液进行在线处理及回收，在保证硅片清洗系统的实用性的同时减小了占地面积，达到了降低硅片清洗成本的目的。

基本信息

专利标题：

硅片清洗系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922395245.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-27

授权号：

CN211678996U

授权日：

2020-10-16

发明人：

郭庆红

申请人：

阿特斯光伏电力（洛阳）有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司

申请人地址：

河南省洛阳市洛龙科技园赢洲路6号

代理机构：

苏州携智汇佳专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

于欣

优先权：

CN201922395245.X

主分类号：

B08B3/02

IPC分类号：

B08B3/02 B08B3/12 B08B13/00