插片机用水系统及硅片清洗系统
授权
摘要

本实用新型涉及一种插片机用水系统及硅片清洗系统,包括:依次设置的硅片插片机、回用水池、过滤装置和储水器;所述过滤装置设有第一排污口,所述第一排污口连通至废水站;所述储水器与所述硅片插片机之间设有第一输水管,所述储水器与所述过滤装置之间设有反洗单元,以使所述储水器中的水对所述过滤装置进行清洗。技术效果:对用水系统进行了优化,实现了硅片插片工序的独立用水循环,最大限度地减少自来水用量和废水排放量,避免了工艺浪费的现象,使得水能够重复利用,节约了水资源,降低了用水成本,减轻了废水处理系统的处理压力。

基本信息
专利标题 :
插片机用水系统及硅片清洗系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920980539.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-26
授权号 :
CN210286847U
授权日 :
2020-04-10
发明人 :
陈江俊
申请人 :
阜宁协鑫光伏科技有限公司
申请人地址 :
江苏省盐城市阜宁县经济开发区香港路888号
代理机构 :
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 :
唐清凯
优先权 :
CN201920980539.6
主分类号 :
C02F1/44
IPC分类号 :
C02F1/44  C02F1/00  B01D65/02  B01D24/46  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
C02F1/44
渗析法、渗透法或反渗透法
法律状态
2020-04-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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