本实用新型提供了一种硅片清洗设备，包括：框架组件；工艺机构，设于框架组件中，数量为至少两个，适于对硅片进行工艺处理；传输组件，与框架组件连接，并适于沿框架组件移动并传输硅片，以使得硅片由任一工艺机构移动至任另一工艺机构；隔离组件，设于框架组件中，通过在开启状态和关闭状态之间切换，以使得任一工艺机构的内部空间与外部空间相互连通或相互分隔；其中，工艺机构包括至少一个的清洗组件和至少一个的烘干组件，清洗组件适于对硅片进行清洗，烘干组件适于对硅片进行烘干，清洗组件中设有匀流装置。本实用新型能够提高硅片的清洗效率和清洗质量。