本实用新型公开了一种硅片超声波清洗装置，包括清洗罐，清洗罐的下端固定连接有多个支撑地脚，所述清洗罐的上方设置有进液管，所述进液管的一端固定连接有第一电磁阀，所述进液管的下端固定连接有多个喷头，多个所述喷头的输出端均贯穿清洗罐的上端连接至其内部，所述清洗罐的下端一侧固定连接有排液管。本实用新型中，通过将硅片由置料口放入到置料筒内，再将置料筒通过滑槽与滑轨的配合放入到清洗罐内，关闭密封盖后，可以使用L型连接杆对密封盖进行限位，打开第一电磁阀和第二电磁阀，由进液管通入清洗液，清洗液经过喷头喷出，每个喷头下端对应一个置料口，从而可以由上端对硅片进行冲洗，去除硅片表面的灰尘。