一种光刻机硅片台双工位交换装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种光刻机硅片台双工位交换装置,包括底座,所述底座底部两端设有两个立架,两个立架之间设有水平设置的滑杠。电机架将电机和滑座连接为一个整体,进行齿轮传动时,两个滑座可同步移动,一个滑座移动至工作位,另一个滑座远离工作位,实现工作位切换,此时,远离工作位的滑座可准备对准等辅助工作,提高工作效率;需要对工位台的高度位置进行调节,此时,工位台底部连接有螺杆,螺杆与滑座螺纹连接,通过转动螺杆,可实现螺杆上下移动,进而实现对滑座高度调节,提高其适用性;储油瓶内润滑油在重力作用下会充满储油槽,当润滑套移动时,储油槽内的润滑油会均匀涂在滑杠上,实现无间断润滑。

基本信息
专利标题 :
一种光刻机硅片台双工位交换装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202023309970.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-12-30
授权号 :
CN216248756U
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
周杰张琪李俊毅符友银
申请人 :
安徽睿芯半导体科技有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市经开区桃花工业园繁华大道工投立恒工业广场B-3-1东
代理机构 :
杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
乐俊
优先权 :
CN202023309970.X
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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