移动装置

授权

摘要

本发明公开了一种特别是用于半导体工业的移动装置(701)，该装置包括第一部分，该第一部分包括承载体(714)，磁体系统(710)按照分别平行于X方向和Y方向延伸的行和列的模式布置在承载体(714)上。每行和每列上的磁体按照海尔贝克阵列布置，即在每行和每列上的相继的磁体的磁性取向逆时针旋转90°。第二部分包括具有两种类型电线圈的电线圈系统(712)，一种类型电线圈与X方向成+45°的角，另一种类型电线圈与X方向成－45°的角。第一部分(714，710)可相对于静止的第二部分(712)在厘米或更大的范围上运动。为了高精度地定位所述第一部分，设有干涉仪系统(731，730)。

基本信息

专利标题：

移动装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101107571A

申请号：

CN200680002500.2

公开（公告）日：

2008-01-16

申请日：

2006-01-10

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

J·C·康普特P·C·M·弗里森J·范埃杰克

申请人：

皇家飞利浦电子股份有限公司

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

蔡洪贵

优先权：

CN200680002500.2

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20