一种具有投影微调机构的光刻设备
授权
摘要
一种具有投影微调机构的光刻设备，包括：传输机构（1）、投影机构（3）、投影支架（4）和机箱（5），传输机构（1）从机箱（5）的前端延伸至后端，投影机构（3）固定在投影支架（4）上，投影支架（4）位于机箱（5）的后端；投影支架（4）包括：支架主体（41）和投影微调机构，投影微调机构固定在支架主体（41）的上端，投影微调机构包括：纵向滑轨（42）和横向滑轨（43），横向滑轨（43）沿前后方向可移动地设置在纵向滑轨（42）上，投影机构（3）沿左右方向可移动地设置在横向滑轨（43）上。由于采用了投影微调机构，因此可以对投影机构的位置进行前后和左右方向的微调，配合电路板将投影图案投射到正确的位置上，保证产品的良率。
基本信息
专利标题 ：
一种具有投影微调机构的光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020943807.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-29
授权号 ：
CN211857180U
授权日 ：
2020-11-03
发明人 ：
温伟华
申请人 ：
广东台名智能设备有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇汴康西路2号5号楼101室
代理机构 ：
深圳科湾知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
钟斌
优先权 ：
CN202020943807.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03B21/54
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-11-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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