光刻投影装置和致动器
授权
摘要
本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括构造成支撑基底的基底台，配置成把带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统和其上安装有至少一部分投影系统的框架。一流体供给装置布置成在基底和投影系统的下游端之间提供流体。该装置还包括致动器，致动器与框架和流体供给装置相联，并布置成将流体供给装置定位，以及缓冲系统，用于当致动器定位流体供给装置时缓冲振动力。
基本信息
专利标题 ：
光刻投影装置和致动器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1786831A
申请号 ：
CN200510131049.1
公开（公告）日 ：
2006-06-14
申请日 ：
2005-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
T·P·M·卡迪
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
肖春京
优先权 ：
CN200510131049.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2012-04-25 ：
授权
2008-01-02 ：
实质审查的生效
2006-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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