一种具有电路板微调平台的光刻设备
授权
摘要
一种具有电路板微调平台的光刻设备，包括：传输机构（1）、投影机构（3）、投影支架（4）和机箱（5），投影机构（3）固定在投影支架（4）上，投影支架（4）位于机箱（5）的后端；传输机构（1）包括：传输板（11）和传输导轨（12），传输导轨（12）从机箱（5）的前端延伸至后端，传输板（11）设置在传输导轨（12）上；光刻设备还包括：微调平台（7），微调平台（7）位于传输导轨（12）的后侧；微调平台（7）包括：承接盘（71）和升降器（72），承接盘（71）设置在升降器（72）上。由于采用了微调平台，因此可以对电路板的高度以及角度进行微调，避免热胀冷缩对投影距离和投影角度的影响，保持投影图案位置及比例的一致性。
基本信息
专利标题 ：
一种具有电路板微调平台的光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020942407.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-29
授权号 ：
CN211857179U
授权日 ：
2020-11-03
发明人 ：
温伟华
申请人 ：
广东台名智能设备有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇汴康西路2号5号楼101室
代理机构 ：
深圳科湾知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
钟斌
优先权 ：
CN202020942407.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-11-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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