模版处理系统
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
对方向错误地安装的模版输送容器(11)进行自动修正。该模版处理系统具有模版输送容器、输送模版输送容器的输送机构(4、5)、烧制电路图案的曝光设备、保管多个模版(12)的模版储存器(2)。在从模版储存器至曝光设备(1)的烧制位置之间的路径上，备有检测模版输送容器的朝向并将模版输送容器变换为适当朝向的朝向变换机构(81)。朝向变换机构(81)备有：使模版输送容器旋转的旋转驱动部(82)、设置于从模版储存器到曝光设备(1)的烧制位置之间的路径的任意处并检测模版输送容器的方向的方向检测机构(83)、当由方向检测机构(83)检测出的方向偏离180°时控制旋转驱动部(82)修正成标准方向的控制部(84)。
基本信息
专利标题 ：
模版处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1790168A
申请号 ：
CN200510131478.9
公开（公告）日 ：
2006-06-21
申请日 ：
2005-12-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
松鸟千明柳原公一
申请人 ：
未来儿株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
温大鹏
优先权 ：
CN200510131478.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-11-18 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-09-19 ：
实质审查的生效
2006-06-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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