用于在光刻设备中识别掩模版的设备和方法
公开
摘要
一种用于诸如掩模版的掩模版的码标记，其中标记的各个元件包括衍射光栅，使得元件的视亮度取决于来自元件的光是否被衍射到读取器的透镜的数值孔径内或数值孔径外。
基本信息
专利标题 ：
用于在光刻设备中识别掩模版的设备和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114270259A
申请号 ：
CN202080056946.3
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-08-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
Y·弗拉迪米斯基M·阿里夫J·H·瓦尔什
申请人 ：
ASML控股股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080056946.3
主分类号 ：
G03F1/44
IPC分类号 ：
G03F1/44 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/38
具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F1/44
测试或测量特征，例如网格图案、焦点监控、锯齿尺寸或缺口尺寸
法律状态
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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