曝光机掩模清洗机的气流改善装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种曝光机掩模清洗机的气流改善装置，包括清洁机本体和设置于清洁机本体上的排放装置，清洁机本体设置有清洗室和供气装置，供气装置用于向清洗室输送气流，并使气流对放置于清洗室内的工件进行清洁处理，排放装置包括排气管道和风扇，排气管道与清洗室连通，风扇能够驱动清洗室内的气流进入排气管道。通过在清洁机本体上设置排气管道和风扇，使清洗室内对工件进行清洁处理后的气流能够通过排气管道及时排出，避免随气流漂浮的异物沉积在清洗室内，或者再次附着在工件上，有利于提高对工件的清洁质量。同时，风扇为气流的流动提供驱动力，使气流只能从清洗室通过排气管道向外部流动，可有效避免气流回流，进一步保证对工件的清洁质量。
基本信息
专利标题 ：
曝光机掩模清洗机的气流改善装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022492687.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-11-02
授权号 ：
CN213276255U
授权日 ：
2021-05-25
发明人 ：
李炯仁
申请人 ：
乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN202022492687.9
主分类号 ：
G03F1/82
IPC分类号 ：
G03F1/82 G03F7/20 B08B5/00 B08B11/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/82
辅助工艺，例如清洗
法律状态
2021-05-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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