一种掩模板清洗机的夹持机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种掩模板清洗机的夹持机构，包括底板和垫板，本实用新型通过设置了调节机构于底板底部，通过向前推动手轮带动齿条移动，并且齿条带动传动齿轮、调速齿轮和螺杆转动，此时移动块在螺杆的带动下进行垂直向下移动，同时移动块带动传动块和转块向下移动，而转块则通过拉绳拉动滑块和中空夹板向内移动进行调节，同时通过卡杆进入到手轮右侧相对应的卡槽内实现对中空夹持板的固定，达到了更加快速准确的将夹持机构上的夹持板进行调节，为工作带来方便的有益效果。
基本信息
专利标题 ：
一种掩模板清洗机的夹持机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021571531.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-31
授权号 ：
CN212623562U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
张存
申请人 ：
芯米（厦门）半导体设备有限公司
申请人地址 ：
福建省厦门市火炬高新区(翔安)产业区春风路6号第三层301
代理机构 ：
厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴圳添
优先权 ：
CN202021571531.3
主分类号 ：
G03F1/82
IPC分类号 ：
G03F1/82
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/82
辅助工艺，例如清洗
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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