光掩模清洗机的工艺处理舱

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及一种光掩模清洗机的工艺处理舱，属于光掩模清洗机技术领域。主要包括外罩、内套和顶盖，所述的外罩由从上到下依次密封连接的上罩、中罩和底罩构成，上罩具有圆锥形的罩壁，中罩的罩壁上设有一个抽气口，且中罩内具有一个倒锥形的挡流圈，挡流圈延伸并超过抽气口，具有排液口的底罩与内套的下部密封连接，顶盖密封安装在内套的上部。本实用新型具有能减少对光掩模交叉污染，提高光掩模清洗效率的特点。

基本信息

专利标题：

光掩模清洗机的工艺处理舱

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820034064.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-04-14

授权号：

CN201177730Y

授权日：

2009-01-07

发明人：

徐飞金海涛

申请人：

徐飞

申请人地址：

213022江苏省常州市新北区汉江路376号

代理机构：

常州市维益专利事务所

代理人：

贾海芬

优先权：

CN200820034064.3

主分类号：

G03F1/00

IPC分类号：

G03F1/00 B08B11/00 B08B3/04

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F1/00

用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备

法律状态

2018-05-08 ：

专利权的终止

专利权有效期届满IPC(主分类) : G03F 1/00
申请日 : 20080414
授权公告日 : 20090107

2017-06-06 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101752630230
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利号 : ZL2008200340643
变更事项 : 专利权人
变更前 : 常州瑞科微电子科技有限公司
变更后 : 常州瑞科微电子科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 213022 江苏省常州市新北区长江中路25号3-318室
变更后 : 213022 江苏省常州市新北区长江北路25号三号楼一楼西

2011-02-16 ：

专利实施许可合同备案的生效、变更及注销

专利实施许可合同备案的生效号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101066880143
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利申请号 : 2008200340643
专利号 : ZL2008200340643
合同备案号 : 2010320000549
让与人 : 常州瑞科微电子科技有限公司
受让人 : 常州瑞择微电子科技有限公司
实用新型名称 : 光掩模清洗机的工艺处理舱
申请日 : 20080414
授权公告日 : 20090107
许可种类 : 独占许可
备案日期 : 20100507

2009-05-20 ：

专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)

登记生效日 : 20090410
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 徐飞
变更后权利人 : 常州瑞科微电子科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 江苏省常州市新北区汉江路376号,邮编 : 213022
变更后 : 江苏省常州市新北区长江中路25号3-318室,邮编 : 213022

2009-01-07 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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