一种掩模工艺夹盘
授权
摘要
本实用新型提供了一种掩模工艺夹盘，其在支承台的外周设置便于插装的挡块，使得掩模基板的四角高度方向限位，从而使得掩模基板在高速旋转过程中不会脱离夹盘，确保掩模基板的安全。其包括其包括盘本体，所述盘本体的对应于掩模基板的四角位置设置有上凸的支承台，所述支承台的上表面对应于所述掩模基板的对应定位孔位置布置有上凸圆柱，其特征在于：所述支承台的对应于掩模基板的每个角的两侧边分别设置有导向凸台，每个所述导向凸台内侧立面平行于掩模基板的对应侧边布置，每个所述支承台上的一对导向凸台的相向面之间设置有垂直安装槽，每个所述支承台还设置有内凸挡块，所述内凸挡块包括上部内凸止挡部分、底部卡装部分。
基本信息
专利标题 ：
一种掩模工艺夹盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921929580.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-11
授权号 ：
CN210466012U
授权日 ：
2020-05-05
发明人 ：
刘维维华卫群尤春顾梦星刘浩
申请人 ：
无锡中微掩模电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新区菱湖大道202号
代理机构 ：
苏州国诚专利代理有限公司
代理人 ：
韩凤
优先权 ：
CN201921929580.7
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2020-05-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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