掩模
授权
摘要
本实用新型涉及掩模，掩模具备：包含开口部的第1掩模、位于第1掩模的开口部的第2掩模、和将第1掩模与第2掩模接合的接合部。第1掩模具有：第1面、位于第1面的相反侧的第2面、以及从第1面扩展至第2面并划出开口部的侧面。第2掩模包含位于第1掩模的第1面侧的第3面和位于第1掩模的第2面侧的第4面。另外，第2掩模具有：包含贯通第2掩模的第1孔的有效区域、和位于有效区域的周边的周边区域。接合部具有：至少包含与第1掩模的侧面接触的侧面部分和与第1掩模的第1面接触的第1面部分的第1部分、以及至少包含与第2掩模的周边区域的第4面接触的第4面部分的第2部分。
基本信息
专利标题 ：
掩模
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921029729.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-03
授权号 ：
CN210394497U
授权日 ：
2020-04-24
发明人 ：
广户荣仁
申请人 ：
大日本印刷株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
王博
优先权 ：
CN201921029729.6
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 C23C14/12
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2020-04-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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