用于在三维物体的表面上沉积金属膜的设备
授权
摘要
本公开涉及一种用于在三维物体的表面上沉积金属膜的设备，并且更具体地，涉及一种用于在三维物体的表面上沉积金属膜的设备，其中，多个三维物体被安装到安装鼓，使得其要经受沉积的三维表面可面向源靶，并且安装鼓是可旋转的，从而在三维物体的三维表面上沉积具有改进的均匀性和质量的三维金属膜。根据本公开所述的设备包括：安装鼓，该安装鼓可旋转地设置在腔室内部并且具有圆周表面，多个三维物体被安放并安装到该圆周表面上，从而使其要经受沉积的每个表面被暴露于外部；以及至少一个源靶，该至少一个源靶通过溅射使金属膜沉积到安装到安装鼓的三维物体的表面上。
基本信息
专利标题 ：
用于在三维物体的表面上沉积金属膜的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110965029A
申请号 ：
CN201910917037.3
公开（公告）日 ：
2020-04-07
申请日 ：
2019-09-26
授权号 ：
CN110965029B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
宋根浩
申请人 ：
股份有限会社太特思
申请人地址 ：
韩国忠清道
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘久亮
优先权 ：
CN201910917037.3
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/50 C23C14/04 C23C14/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2020-05-01 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20190926
申请日 : 20190926
2020-04-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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