沉积设备
授权
摘要
本申请实施例提供了一种沉积设备，该沉积设备包括：壳体、位于壳体的沉积腔室内加热装置、载盘以及位于壳体外的温度检测装置，其中，加热装置用于给载盘进行加热，以通过载盘给衬底加热，沉积腔室沿预设方向划分成M个嵌套分布的温场，温度检测装置包括多个温度检测元件，温度检测元件与温场一一对应，用于检测其对应温场的温度，从而可以通过获取各个温度检测元件检测到的与其对应温场的温度，控制加热装置，使得各温场的温度相同或者在一定的误差范围内，以提高M个温场的温度均匀性，进而提高LED中外延结构生长过程中的波长的均匀性。
基本信息
专利标题 ：
沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020905482.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-26
授权号 ：
CN212669854U
授权日 ：
2021-03-09
发明人 ：
霍丽艳滕龙吴洪浩谢祥彬刘兆
申请人 ：
江西乾照光电有限公司
申请人地址 ：
江西省南昌市新建区望城新区宁远大街1288号
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
尹秀
优先权 ：
CN202020905482.6
主分类号 ：
C30B25/10
IPC分类号 ：
C30B25/10 C30B25/12 C30B25/16 H01L33/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长，例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/10
反应室或衬底的加热
法律状态
2021-03-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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