等离子沉积设备
授权
摘要
本实用新型提供一种等离子沉积设备，用于对靶棒进行沉积处理，包括支架、安装于所述支架上的传动组件、若干温控组件及等离子组件，所述传动组件与所述靶棒连接，所述温控组件安装于所述靶棒周侧，以控制所述靶棒温度，所述等离子组件一端靠近所述靶棒，以对所述靶棒进行沉积处理。所述等离子沉积设备具有控制沉积温度并能调节光纤预制棒折射率的优点。
基本信息
专利标题 ：
等离子沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920603533.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-28
授权号 ：
CN210340703U
授权日 ：
2020-04-17
发明人 ：
丁杰沈一春钱宜刚范艳层
申请人 ：
中天科技精密材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市开发区中天路3号
代理机构 ：
深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘丽华
优先权 ：
CN201920603533.7
主分类号 ：
C03B37/018
IPC分类号 ：
C03B37/018
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C03
玻璃；矿棉或渣棉
C03B
玻璃、矿物或渣棉的制造、成型；玻璃、矿物或渣棉的制造或成型的辅助工艺
C03B37/00
由软化的玻璃、矿物或渣制的絮片、纤维或细丝的制造或处理
C03B37/01
玻璃纤维或细丝的制造
C03B37/012
拉制纤维或细丝用预制棒的制造
C03B37/014
完全或部分用化学方法制造
C03B37/018
用玻璃基体上沉积玻璃法，例如用化学气相沉积法
法律状态
2020-04-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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