一种等离子化学气相沉积设备
授权
摘要
本发明提供了一种等离子化学气相沉积设备，由于下部电极上存在磨损速度不同的多个电极区域，通过将下部电极的绝缘层也划分为多个绝缘区域，该多个绝缘区域与磨损速度不同的多个电极区域对应且多个绝缘区域的绝缘特性不同，即根据多个电极区域的磨损速度设置对应的绝缘特性的绝缘区域，以尽量减小下部电极的多个电极区域的磨损程度差异，从而提高了下部电极的磨损一致性，避免因局部磨损过快而导致的斑点等不良的产生，同时也能有效延长下部电极的使用寿命，避免频换新的下部电极所带来的成本增加。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子化学气相沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111575680A
申请号 ：
CN202010598539.7
公开（公告）日 ：
2020-08-25
申请日 ：
2020-06-28
授权号 ：
CN111575680B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
闵卿旭
申请人 ：
云谷（固安）科技有限公司
申请人地址 ：
河北省廊坊市固安县新兴产业示范区
代理机构 ：
北京布瑞知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄俊
优先权 ：
CN202010598539.7
主分类号 ：
C23C16/511
IPC分类号 ：
C23C16/511 C23C16/509
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/511
采用微波放电
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2020-09-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/511
申请日 : 20200628
申请日 : 20200628
2020-08-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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