化学气相沉积装置
专利权的终止
摘要
化学气相沉积装置，包括一反应器、一防漏伸缩管结构以及一排气管。该防漏伸缩管结构包括一压缩性本体，一套筒以及一垫圈。该垫圈设置于该本体的一端，用来连接该排气管。该套筒设置于该本体内，该套筒的一端与该反应器相连接，该套筒可避免废气直接接触该本体而残留于该本体内。另外，由于该压缩性本体以一体成型的方式形成，在废气排出的过程中，可避免废气自该压缩性本体中泄漏出，因此可提高制作工艺的质量。
基本信息
专利标题 ：
化学气相沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1970831A
申请号 ：
CN200510126889.9
公开（公告）日 ：
2007-05-30
申请日 ：
2005-11-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
柯志伟庄仁吉范世衡
申请人 ：
中华映管股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾台北市
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
魏晓刚
优先权 ：
CN200510126889.9
主分类号 ：
C23C16/00
IPC分类号 ：
C23C16/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
法律状态
2018-01-12 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 16/00
申请日 : 20051125
授权公告日 : 20090603
终止日期 : 20161125
申请日 : 20051125
授权公告日 : 20090603
终止日期 : 20161125
2009-06-03 ：
授权
2007-07-25 ：
实质审查的生效
2007-05-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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