一种化学气相沉积用导气料柱及化学气相沉积炉
授权
摘要
本实用新型实施例提供了一种化学气相沉积用导气料柱及化学气相沉积炉，所述导气料柱包括同轴设置的多个分体单元和至少一个连接单元，两个相邻的所述分体单元之间通过一个所述连接单元连接，其中，所述分体单元呈筒状；所述分体单元包括多个条状连接块，所述条状连接块沿所述分体单元的周缘方向依次拼接；相邻的所述条状连接块之间设置有填隙物。本实用新型实施例的化学气相沉积用导气料柱可以在保证导气料柱机械强度的同时降低导气料柱的成本。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积用导气料柱及化学气相沉积炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921760494.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-18
授权号 ：
CN211921689U
授权日 ：
2020-11-13
发明人 ：
姚宏成路段滨赵领航高攀红李梦飞
申请人 ：
隆基绿能科技股份有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市长安区航天中路388号
代理机构 ：
北京润泽恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
莎日娜
优先权 ：
CN201921760494.8
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/26
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-11-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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