一种化学气相沉积炉用导气座
授权
摘要
本实用新型公开了一种化学气相沉积炉用导气座，该导气座包括用于与气相沉积炉气体分布器连接的上连接口、导气座筒体以及用于与进气软管连接的下连接口，其中，所述上连接口和下连接口分别设置在导气座筒体的上下两端。本实用新型所述的一种化学气相沉积炉用导气座，主要设计了用于连接进气软管的管螺纹，还有用于连接炉底的外螺丝管螺纹，本设计避免了因炉底振动导致锁紧螺母松动而造成气体泄漏。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积炉用导气座
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122626211.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-29
授权号 ：
CN216585202U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
李志保裴洋樊乾国侯光远贾武林杨浩
申请人 ：
西安美兰德新材料有限责任公司
申请人地址 ：
陕西省西安市临潼区秦王二路56号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122626211.4
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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