一种化学气相沉积炉
授权
摘要
本实用新型涉及化学气相沉积设备技术领域，尤其涉及一种化学气相沉积炉，解决现有技术中存在的缺点，包括炉体，所述炉体的顶部通过螺丝固定连接有原料仓，炉体的底部设有成品出料口，且炉体的两侧分别开设有输气口和排气口，所述输气口通过法兰盘固定连接有输气管道，所述输气管道的另一端固定连接有气体混合器，所述气体混合器上分别设有第一进气口和第二进气口，在原料进入炉体内部反应时，利用电机来驱动滑台滑动，同时利用丝杠的反向作用原理使转动块在炉体内往复移动的同时转动，以此来实现对物料来回搅拌的效果，使材料与气体充分接触，使得材料获得均匀的碳包覆，进而提升沉积效果并提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020859916.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-21
授权号 ：
CN212451625U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
朱双林李春敏马国忠胡人文王恩强黄道平沈伟
申请人 ：
苏州索科特新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市张浦镇欣合路6号1幢
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020859916.3
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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