化学气相沉积装置
授权
摘要
本申请公开了一种化学气相沉积装置，包括供气管道、清洁管道、反应器、第一连接件和冷却管道。其中，供气管道配置为输送制程气体，清洁管道配置为输送清洁气体，反应器具有沉积腔与第一通道，第一通道位于沉积腔的上端，第一连接件位于反应器上，第一连接件将供气管道、清洁管道与沉积腔连通。冷却管道配置为输送冷却剂，冷却管道与第一通道连通，冷却管道与第一连接件间隔设置，避免冷却管道直接与第一连接件连接，造成清洁气体在第一连接件上冷凝，从而提高化学气相沉积装置的清洁效果。
基本信息
专利标题 ：
化学气相沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122381351.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-29
授权号 ：
CN216473471U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
陈神星卢山王其军朱海
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 ：
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐雯
优先权 ：
CN202122381351.X
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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