化学气相沉积设备

专利权的终止

摘要

一种化学气相沉积设备，包括：反应腔盖板，若干喷头、位置固定件以及连接杆，所述连接杆的一端与喷头固定连接，另一端贯穿所述反应腔盖板，通过位置固定件连接在反应腔盖板的外表面。反应腔盖板外表面上设置有凹槽，连接杆贯穿所述凹槽。所述方案克服了现有技术中调节喷头时必须打开反应腔的缺陷，避免了现有技术打开反应腔调整喷头位置所浪费的机台升降温的时间，减少了机台的闲置时间，提高了利用效率。

基本信息

专利标题：

化学气相沉积设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720144364.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-12-13

授权号：

CN201136895Y

授权日：

2008-10-22

发明人：

许亮

申请人：

中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江路18号

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

李丽

优先权：

CN200720144364.2

主分类号：

C23C16/44

IPC分类号：

C23C16/44 C23C16/52

相关图片

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C16/00

通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺

C23C16/44

以镀覆方法为特征的

法律状态

2018-01-23 ：

专利权的终止

专利权有效期届满IPC(主分类) : C23C 16/44
申请日 : 20071213
授权公告日 : 20081022

2012-12-12 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101486565543
IPC(主分类) : C23C 16/44
专利号 : ZL2007201443642
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201203 上海市浦东新区张江路18号
变更后权利人 : 100176 北京市经济技术开发区文昌大道18号
登记生效日 : 20121113

2008-10-22 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

CN201136895Y.PDF

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