一种化学气相沉积设备
授权
摘要
本实用新型实施例提出一种化学气相沉积设备，所述设备包括：远程等离子体源；反应室；真空泵；用于连接该远程等离子体源和该反应室的进气管道，主清洁气体通过该进气管道从该远程等离子体源进入该反应室；用于连接该反应室和该真空泵的排气管道；该进气管道上有一支路管道，接入支路清洁气体。进一步地，该排气管道呈入口端窄，出口端宽的形状。本实用新型提供的改进，有效提高了吹扫进气管道内壁上的沉积物形成的污染物的效率，还提高了清洁效率，从而延长了进行预防性维护的周期，也就是增加了单位时间内设备得到有效使用的时间，因此大幅降低了生产成本。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123083021.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-09
授权号 ：
CN216585199U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
刘洋金補哲叶新浩厉冰峰蔡宇航
申请人 ：
盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市鄞州区云龙镇石桥村
代理机构 ：
上海市汇业律师事务所
代理人 ：
王函
优先权 ：
CN202123083021.9
主分类号 ：
C23C16/40
IPC分类号 ：
C23C16/40 C23C16/44 C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/30
沉积化合物、混合物或固溶体，例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C16/40
氧化物
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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