一种化学气相沉积设备
专利申请权、专利权的转移
摘要
本实用新型公开了一种化学气相沉积设备,包括罐体,罐体内转动连接圆管,圆管外侧设有第一透气孔,圆管一侧转动连接气管,圆管一端固定连接第一链轮,罐体上侧固定连接电机,罐体内固定连接第一挡板,第一挡板下侧固定连接橡胶块,第一挡板下方滑动连接第二挡板,第二挡板设有第三透气孔,罐体底部固定连接加热台。本实用新型的优点:先通过旋转的圆管和叶片,使得反应气体均匀分布在罐体上方,然后向下滑动第二挡板,使的罐体上侧的反应气体通过第三透气孔均匀的流入到罐体下方,与基片反应,使基片表面沉积的薄膜更加均匀,避免了现有设备之间将反应气体通向基片导致反应气体分布不均,产生的薄膜表面不均匀,从而提高了产品质量。
基本信息
专利标题 :
一种化学气相沉积设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020189300.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-02-20
授权号 :
CN211872082U
授权日 :
2020-11-06
发明人 :
不公告发明人
申请人 :
杨翠兰
申请人地址 :
天津市北辰区洛河道2号天津职业大学
代理机构 :
北京艾皮专利代理有限公司
代理人 :
马小辉
优先权 :
CN202020189300.X
主分类号 :
C23C16/455
IPC分类号 :
C23C16/455 C23C16/511
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-08-17 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 16/455
登记生效日 : 20210805
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 杨翠兰
变更后权利人 : 上海铂世光半导体科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 300000 天津市北辰区洛河道2号天津职业大学
变更后权利人 : 201707 上海市青浦区新科路303号1幢
登记生效日 : 20210805
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 杨翠兰
变更后权利人 : 上海铂世光半导体科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 300000 天津市北辰区洛河道2号天津职业大学
变更后权利人 : 201707 上海市青浦区新科路303号1幢
2020-11-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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