一种化学气相沉积设备
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种化学气相沉积设备，所述化学气相沉积设备包括外层反应管、内层反应管以及气体供应系统，所述外层反应管嵌套在所述内层反应管外侧，二者分别单独密封，所述外层反应管与所述内层反应管之间或者二者内部至少一处设置有连通结构，所述气体供应系统的进气端和回气端分别与所述外层反应管、内层反应管中的至少一个相连通，所述外层反应管、内层反应管左右两端的进/出气口交替作为气体供应入口。本实用新型结构简单，气体路径可调，优化了CVD法制备纳米薄膜材料的工艺。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921676252.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-09
授权号 ：
CN210974866U
授权日 ：
2020-07-10
发明人 ：
李辰宇王慧慧
申请人 ：
碳翁（北京）科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区翠微中里14号楼三层A291室
代理机构 ：
北京律谱知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李砚明
优先权 ：
CN201921676252.0
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-09-17 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20191009
授权公告日 : 20200710
终止日期 : 20201009
申请日 : 20191009
授权公告日 : 20200710
终止日期 : 20201009
2020-07-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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