一种化学气相沉积设备
公开
摘要
本发明涉及化学气相沉积技术领域，具体为一种化学气相沉积设备，包括箱体、铰接在箱体上的箱盖、固定安装在箱盖上的进料口，所述箱体的内壁上固定安装有缓冲箱，所述进料口的底部与缓冲箱的上端连通，所述缓冲箱的内部固定安装有第一固定杆，所述第一固定杆的下端设有扇叶。本发明通过设置第一固定杆、扇叶、缓冲箱等机构，待沉积气体由进料口进入箱体内部，利用驱动设备带动扇叶旋转，旋转的扇叶在进料口处形成气流，加快待沉积气体进入缓冲箱的速度，待沉积气体通过通气孔扩散到缓冲箱的下端，使得待沉积气体均匀扩散到箱体内腔中。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114574836A
申请号 ：
CN202210130187.1
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-02-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李涛王俊刘书凯
申请人 ：
李涛
申请人地址 ：
北京市大兴区黄村海子角黄徐路东侧辛店小区A栋301室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202210130187.1
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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